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1月5日消息，苏州光舵微纳科技股份有限公司（简称：光舵微纳）近日完成由国投创合投资的近亿元B+轮股权融资。
此次融资完成后，光舵微纳将继续提升其核心研发团队的技术实力，积极研发应用于多个重要场景的高端纳米压印设备并进行广泛的市场开拓，进行产线扩充，推进纳米压印技术在更多应用领域的导入，打造从产品、系统到整体解决方案的商业模式，助力国内半导体制造产业发展。 全自动纳米压印设备（图片来源：光舵微纳） 据悉，纳米压印（Nano Imprint Lithography，NIL）发明于上世纪90年代中期，该技术利用机械模具微复型原理在基板上制备微纳结构。
纳米压印克服了光刻技术中由于衍射导致的分辨率限制，具有超高分辨率、易量产、低成本、一致性高的优点，可应用于半导体、LED照明、平板显示、生物技术、太阳能电池、光学等领域。
图片来源：光舵微纳 据悉，纳米压印技术是微纳加工领域的一项关键底层技术，在国际半导体蓝图（ITRS）中，该技术被列为下一代半导体加工技术的重要代表之一。
针对纳米压印技术，成立于2011年的光舵微纳，经过多年的研发及市场应用推广，制造出了多款研发型纳米压印设备及全自动量产型纳米压印设备，实现了在设备、耗材及工艺的突破。
其中，在LED图形化衬底产业（LED-PSS）领域，光舵微纳在技术与市场地位方面处于前列水平，其纳米压印设备及耗材已在客户端实现超过4000万片LED-PSS的大规模稳定量产，LED图形化衬底领域实现了对尼康光刻机的产业化替代，并处于快速扩张阶段。
此外，光舵微纳积极拓展纳米压印技术在高端半导体、AR衍射光波导、生物检测器件、消费电子等领域的产业化应用，并已取得了实质性进展。
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